主题：【讨论】西西河学化学的神仙帮帮忙吧！ -- 这个杀手有点冷

本穷现在做实验做的发慌，求助空气中乙醇和硅高温下发生化学反应生成什么东东啊

空气和乙醇的比例多少？空气过量会导致体系呈现氧化态，反之是还原态，相差很大的。

高温是多少度？100'C？还是1000'C？

硅是什么状态？粉末？颗粒？大块固体？

常压空气还是真空？开放体系还是密闭的？体积大约多大？

最好把你所知道的反应条件都列全了，不同条件会有区别的。

2000度还怎么跟硅反应？

如果说是突然加温，乙醇来不及挥发，那么我认为生成的应该是碳化硅，很难是其他什么东西。

在硅的表面可能会有碳化硅或者碳沉积。其他的来不及反应。碳如果没有及时脱离高温区，会被氧化。

脉冲激光束冲击如此的Si表面会在Si表面形成Si的氧化膜，如在封闭的体系，会有部分的SiC粒形成。

这做一下表面分析就知道了。

没有Si-H产物？

只有俺这样的土人才会去学。

试着答一下。

硅和空气中的氧在高温下会反应生成氧化硅，这点应该不会错的。用激光的话，可以精确控制加热带的宽度。激光照射到区域，乙醇被蒸发，从而暴露在空气中被氧化。激光作用时间很短，附近的区域的乙醇来不及蒸发，即使蒸发也是蒸气，从而隔绝空气，避免由于热传导导致邻近部分被氧化，从而控制氧化带的宽度。

另外也有可能生成碳化硅，取决于反应条件。

对于硅加工的工艺不太熟，仅提供一点可能的思路，供参考。算是抛砖引玉吧。

此外，做实验时要注意安全。空气加乙醇加高温，不注意比例的话容易发生爆炸。最好找相关的工艺书或有经验的人看看。

我过去听人说过，单晶硅表面分布其他成分结晶点。不知道工艺怎么做成的。我原来以为是刻蚀出窗口离子注入。看了你这么说，才知道还可以用激光打。

不过对半导体工业来说，这么用激光打点效率太低了吧。

只是从化学角度瞎猜的。

硅烷（SiH4）

　　一、硅烷的理化性能

　　化学性质：硅烷是一种无色、与空气反应并会引起窒息的气体。

　　同义名称：四氢化硅(Silicon hydride)

　　CAS号：7803-62-5

　　化学式：SiH4

　　含量％：99.99%

　　危险级别：2.1 易燃气体;2.3有毒气体

http://baike.baidu.com/view/275481.htm