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主题：【原创】普京的台阶在哪里？ -- 本嘉明
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euv+dsa 除了不能做bridge 其他cut，
Grating patterns with 18/21 nm pitch can be fabricated with two process flows
1）EUV printed 36/42 nm pitch + SADP
2）DSA rectified 36/42 nm pitch + SADP
euv做segment length能到8nm
- 相关回复 上下关系8
压缩 8 层
🙂tsmc 做n3b 是euv+dsa
🙂军工上未必都需要高端芯片 10 胡一刀 字818 2024-02-22 06:19:49
🙂【讨论】领先即胜率 2 本嘉明 字1456 2024-02-22 08:42:38
🙂老本你这个论述成立的前提得是米帝直接下场并转入战时体制啊 2 宏寺 字0 2024-03-18 12:48:31
🙂【讨论】美国陆军一个连入驻金门了 1 本嘉明 字581 2024-03-18 15:04:05
🙂巡航导弹使用地形匹配比使用GPS还要早。 5 宏寺 字0 2024-03-21 17:34:03
🙂芯片军国主义，那就是芯片下饺子呀 8 胡一刀 字423 2024-03-09 04:47:52
🙂俄军一崩再崩，崩得连阿夫迪夫卡都拿下了 4 向前向前 字30 2024-03-07 22:41:39