主题：【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

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除非不走光学路线

现在好像很多都快到光学极限了，如果要继续往小了做，用光刻的方法就不太行了。

其他的呢，就有E-beam（电子束蚀刻）好像还听到过X-Ray，Ion-Beam之类的。不过这个也有自己的问题，别的不是很清楚，E-Beam就是速度慢，虽然线宽可以很小，但是就是不能量产，不能适应工业生产。

如果真的要搞这个，作为国家策略可以做两手准备，一方面研究传统的光刻，另外也开发一下新的技术。新技术大家都在研究，说不定苹果就砸在哪个山寨上了呢？:-)

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